四氟化碳（CF₄）是一种‌常温常压下为无色无味气体‌的化学物质，化学性质极其稳定，‌主要用于半导体芯片制造中的等离子刻蚀工艺‌，也是微电子工业中用量*大的蚀刻气体 。
基本理化性质
‌化学标识‌:
化学式:‌CF₄‌，又名四氟甲烷、全氟甲烷。
分子量:88.00，CAS 号 75-73-0。
常温常压下为‌无色无臭气体‌，不溶于水。
‌物理参数‌:
熔点:约 -184℃，沸点:约 -128℃。
气体密度（0℃）:3.946kg/m³，约为空气的 3 倍。
临界温度:-45.6℃，临界压力:3739kPa。
‌化学特性‌:
化学性质‌异常稳定‌，是含碳化合物氟化过程的*终产物。
空气中不燃烧，高温下（>800℃）才会开始分解。
微溶于水（25℃时溶解度约 0.0015%），溶于苯和氯仿。
主要用途与半导体应用
‌半导体刻蚀气体‌:
是微电子工业中‌用量*大的等离子刻蚀气体‌
广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的刻蚀。
在电子器件表面清洗、太阳能电池生产中也大量使用。
‌其他工业用途‌:
低温制冷剂、气体绝缘介质。
激光气体、泄漏检验剂。
金属冶炼、塑料行业（因化学稳定性极强）。
‌电子级标准‌:
中国国家标准《电子气体—四氟甲烷》(GB/T 43976-2024) 于‌2024 年 11 月 1 日正式实施‌
高纯电子级纯度可达 |
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